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“中国芯”关键材料国产化

前驱体材料

光刻胶及配套材料

三乙硅烷基胺（TDSA）

三乙硅烷基胺（TDSA）

中文名：三乙硅烷基胺
英文名：Trisdisilanylamine
CAS号：14635-45-1
纯度：≥98.0%
用途：通过化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）形成含硅薄膜
规格：公斤级

1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷（TADS）

1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷（TADS）

中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
CAS号：2273763-87-2
纯度：≥99.0%
用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成高密度氧化硅
规格：公斤级

二异丙氨基乙硅烷（DPDS）

二异丙氨基乙硅烷（DPDS）

中文名：二异丙氨基乙硅烷
英文名：Diisopropylaminodisilane
CAS号：151625-25-1
纯度：≥99.0%
用途：通过气相沉积形成晶种层
规格：公斤级

1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷（DCDADS）

1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷（DCDADS）

中文名：1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷
英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
CAS号：2152681-89-3
纯度：≥99.0%
用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
规格：公斤级

五氯乙硅烷（PCDS）

五氯乙硅烷（PCDS）

中文名：五氯乙硅烷
英文名：Pentachlorodisilane
CAS号：31411-98-0
纯度：≥99.0%
用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
规格：公斤级

1，1，1-三氯乙硅烷（3CDS）

1，1，1-三氯乙硅烷（3CDS）

中文名：1，1，1-三氯乙硅烷
英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
CAS号：78228-96-3
纯度：≥99.0%
用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
规格：公斤级

2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷（BNS）

2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷（BNS）

中文名：2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷
英文名：2，2，4，4-Tetrasilylpentasilane
CAS号：1668602-96-7
纯度：≥98.0%
用途：在低温通过化学气相沉积（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
规格：公斤级

新戊硅烷（NPS）

新戊硅烷（NPS）

中文名：新戊硅烷
英文名：Neopentasilane
CAS号：15947-57-6
纯度：≥99.0%
用途：在低温通过化学气相沉积（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
规格：公斤级

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